Chemische oxidatie, de selectieve verwijdering van elektronen van een substraat, vertegenwoordigt een van de belangrijkste transformaties in de chemie. Echter, de meest voorkomende oxidatiemiddelen vertonen vaak nadelen zoals ongewenste nevenreacties. De chemicus Marcel Schorpp en collega's van de groep van Prof. Dr. Ingo Krossing van het Instituut voor Anorganische en Analytische Chemie aan de Universiteit van Freiburg hebben met succes een nieuw en extreem stabiel geperfluoreerd radicaalkation gegenereerd. In samenwerking met Stephan Rein van de groep van Prof. Dr. Stefan Weber van het Instituut voor Fysische Chemie, deze radicaal werd tot in detail gekarakteriseerd. De onderzoekers publiceerden onlangs hun resultaten in het tijdschrift Angewandte Chemie .

Het nieuwe reagens blijkt een extreem sterk oxidatiemiddel te zijn en maakt de synthese van reactieve soorten mogelijk in standaard laboratoriumoplosmiddelen die voorheen moeilijk of ontoegankelijk waren, bijvoorbeeld, de oxidatie van decamethylferrocenium, wat een lang bekende en zeer stabiele soort is voor de overeenkomstige zeer reactieve dication in de aanwezigheid van koolmonoxide. Met dit nieuw beschreven reagens, veel van de bovengenoemde nadelen van andere oxidanten kunnen worden omzeild, omdat het reageert als een onschuldig oxidatiemiddel:het neemt alleen elektronen op van het substraat zonder verdere reactiviteit te vertonen.

Vanwege de brede toepasbaarheid die in het artikel wordt beschreven, dit reagens is interessant voor anorganische, organische chemie en elektrochemische of materiaalwetenschappelijke onderzoeksvragen. "In de toekomst, bijvoorbeeld, het zou mogelijk kunnen zijn om het in te bedden in een polymeer om te gebruiken als kathodemateriaal voor organische batterijen, ", legt Schorpp uit.