Dankzij een magnetron, het fundamentele nanotechnologieproces van zelfassemblage kan binnenkort het lithografische verwerkingsgebruik vervangen om de alomtegenwoordige halfgeleiderchips te maken.

Door gebruik te maken van magnetrons, onderzoekers van Canada's National Institute for Nanotechnology (NINT) en de Universiteit van Alberta hebben de kooktijd voor een specifiek moleculair zelfassemblageproces dat wordt gebruikt om blokcopolymeren te assembleren drastisch verkort, en hebben het nu een levensvatbaar alternatief gemaakt voor het conventionele lithografieproces voor gebruik bij het modelleren van halfgeleiders.

Toen het team van scheikundigen en elektrotechnische onderzoekers convectiewarmte verving door een magnetron, nanodeeltjes werden aangemoedigd om zichzelf extreem snel in zeer regelmatige patronen te organiseren, waardoor de verwerkingstijd van dagen tot minder dan een minuut werd teruggebracht.

De verwerkingstijd is erg belangrijk als dit zelfassemblageproces in de industriële halfgeleiderfabricage moet worden geïntroduceerd. In de International Technology Roadmap for Semiconductors, de belofte van zelfassemblage om tegemoet te komen aan de behoefte om steeds meer functionaliteit op chips te zetten, werd erkend. De blokcopolymeermethode, die nanomaterialen aanstuurt om mallen te maken en ze vervolgens opvult met een doelmateriaal, bekend was dat het in staat was zeer gedetailleerde patronen te maken die vele malen kleiner waren dan de huidige technologie. Maar voorheen was de tijd die moleculen nodig hadden om zichzelf te organiseren te lang om bruikbaar te zijn voor de industrie. Door de verandering van de warmtebron is die verwerkingstijd ruim onder de voorgestelde doelstelling van 4 minuten gebracht.

"Dit is een van de eerste voorbeelden van het zelfassemblageproces dat wordt gebruikt om een ​​reëel probleem voor de halfgeleiderindustrie aan te pakken, " zei Dr. Jillian Buriak "We hebben het proces; de volgende stap is om het te exploiteren om er iets nuttigs van te maken."